ԭ�ӌӳ��e�O(sh��)��
�l(f��)��r(sh��)�g��2023-08-19
ԭ�ӌӳ��e�O(sh��)�䣨Atomic Layer Deposition�����QALD����һ�N���M(j��n)�ı�Ĥ�Ƃ似�g(sh��)�������ڲ��ϱ�����ԭ�ӌӵľ��_���ƺ�����L�����Ĥ�����c��Ҏ(gu��)�Ļ��W(xu��)������e��CVD�������������e��PVD����������и��ߵij��e�ٶ������õı�Ĥ�����Ժ��õı�Ĥ�|(zh��)����ԭ�ӌӳ��e�O(sh��)����Ҫ��(y��ng)��������������{�ײ�������������W(xu��)���Ϻ���Դ������I(l��ng)����
ԭ�ӌӳ��e�O(sh��)����Ҫ�������ׂ�(g��)���֣�
1. ����(y��ng)�ң������M(j��n)�б�Ĥ���e����(y��ng)�ĭh(hu��n)����ͨ���ɸ���յĚ��w���]ϵ�y(t��ng)��(g��u)�ɣ��_������(y��ng)�^���Л]������s�|(zh��)�M(j��n)�롣
2. ݔ��ϵ�y(t��ng)�����ڌ���Ƭ��substrate�����뷴��(y��ng)�������ڲ�ͬ���E֮�g������ݔ��ϵ�y(t��ng)��Ҫ�߂��^�ߵķ�(w��n)���Ժ;��_�����Դ_����Ĥ���e��һ���ԡ�
3. ���w���oϵ�y(t��ng)�������ṩ��ͬ��ǰ�(q��)�w���w����ALD�^��������Ҫ���湩�o��ͬ��ǰ�(q��)�w���w���Ԍ�(sh��)�F(xi��n)ԭ�ӌӵij��e�����w���oϵ�y(t��ng)��Ҫ�߂䷀(w��n)�����ɿ������ܣ��Դ_���a(ch��n)������Ļ��W(xu��)����(y��ng)��
4. ����(y��ng)���������ݼ{��Ƭ��ǰ�(q��)�w���w�������ƜضȺ͉����ȅ���(sh��)������(y��ng)��ͨ���ɸߜ��͟�����Ƴ������߂����õğ����(d��o)�������Ԍ�(sh��)�F(xi��n)�^�ߵij��e���ʺ;�������
5. ��ϵ�y(t��ng)�����ھS�ַ���(y��ng)�҃�(n��i)����ն���ALD�^������Ҫ����խh(hu��n)������ϵ�y(t��ng)��ȡ����(y��ng)���еĚ��w���s�|(zh��)�����á�
6. ����ϵ�y(t��ng)�����ڱO(ji��n)�y���{(di��o)��(ji��)����(y��ng)�ҵĜض��������������ȅ���(sh��)��ͨ�^����ϵ�y(t��ng)�����Ԍ�(sh��)�F(xi��n)ALD�^�̵��Ԅ�(d��ng)�����ƺ�ӛ���
���w���f��ԭ�ӌӳ��e�O(sh��)���ڲ��ϿƌW(xu��)���{�ӹ��I(l��ng)�������Ҫ�đ�(y��ng)�Ãr(ji��)ֵ���܉�M�㌦�߾��ȡ����|(zh��)���Ͷ�ܱ�Ĥ���������ڌ�(sh��)�H��(y��ng)���У��O(sh��)��ķ�(w��n)�������ɿ��ԺͿ������ܶ����P(gu��n)�I��������Ҫ��(j��ng)�^�����O(sh��)Ӌ(j��)�̓�(y��u)����
